Neova Advanced Ha

Et cellulært forsterkende system med spesialiserte hyaluronsyrer med lav molekylvekt og DNA-reparasjonsavtaler direkte med fuktighetsunderskudd stabiliserer cellefunksjonen, og slapper av anskaffet fotodamage før det kan bli permanent.

Nøkkelingredienser:

• LMW hydrolysert hyaluronsyre Binder til kollagen på den ene siden og kobler til vannmolekyler på den andre, og gir huden sprett. Når det er skade, regulerer det betennelsesnivåer for å redusere cellespenning.
• Ceramider Beskytt hudens barriere og motstå irriterende aggressorer.
• DNA -reparasjonsenzymer Fotolysomer, mitosomer, endosomer gjenkjenner den vanligste formen for oksidativ skade på DNA og eliminerer 90% av det på 2 timer og har vist seg å redusere UV-indusert DNA-skade med 45% etter en enkelt eksponering.

Vann (Aqua), Hamamelis Virginiana (heksehassel) vann, propylenglykol, glyserin, panthenol, xylityylglukosid, anhydroxylitol handling Ammonium akryloyldimetyltaurat/VP -kopolymer, fenoksyetanol, butylenglykol, alkohol, xylitol, etylhexylglycerin, um marianum fruktekstrakt, ceramide eop .

Påfør 2 dråper for å rengjøre fuktig hud. Bruk A.M. og P.M. på egen hånd eller blandet med fuktighetskrem for maksimale resultater.