NEOVA DNA損傷制御SILC SHEER 2.0 SPF 40

• エンドソーム。海洋微生物、マイクロコッカス溶解物からのリポソームがカプセル化された抽出物。非常に紫外線耐性である抽出物には、日光損傷の皮膚の外観を改善する酵素UVエンドヌクレアーゼが含まれています。
• 光分解。リポソームがカプセル化されたDNA修復酵素であるプランクトンに由来するフォトリアーゼは、UV誘発性in辱の目に見える兆候を減らす能力が非常に効率的でユニークです。
• L'Ergothioneine。フリーラジカル活動によって引き起こされる酸化的損傷と戦う強力な抗酸化物質。

非アクティブな成分： アルミナ、ブチレングリコール、クエン酸、プランクトン抽出物、シクロペンタシロキサン、ジメチコン/PEG-10/15クロスポリマー、HDI/トリメチロールヘキシルロクトクロスポリマー、ヨードロピニルブチルカルバメート、ミミス、オキシド、酸化メチコン、マイクロコッカス溶解物、オクトルドデシルネオペンタノエート、フェノキシエタノール、精製水、シリカ、塩化ナトリウム、水酸化ナトリウム、トリエトキシカプリルシラン。

毎朝、日光にさらされる15分前に顔と首に自由に塗布します。少なくとも2時間ごとまたは水泳または発汗の80分後に再申請します。
警告：外部使用のみ。目と直接接触しないでください。発疹や刺激が発生した場合は、使用を停止し、医師の診察を求めてください。子供の手の届かないところにいない。飲み込んだ場合は、すぐに毒物管理センターに連絡するか、すぐに医療援助を求めてください。